Mountains® LER 工具用于精密半导体表征的线边缘粗糙度(LER)分析

  • 20

    2026-09

    精密半导体表征的线边缘粗糙度(LER)分析

    在半导体行业,对纳米结构进行精确表征对于确保器件性能和可靠性至关重要。在众多关键参数中,线边缘粗糙度(LER)和线宽粗糙度(LWR)在工艺控制中起着至关重要的作用。扫描电子显微镜 (SEM) 被广泛用于检测这些差异···

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