π2-Cygni 模块化亚微米图案化与光刻系统

π2-Cygni 模块化亚微米图案化与光刻系统

此前从未有一款工具能够在 172 nm 波长下，将高功率、卓越均匀性和多功能性集成于高效且紧凑的模块化结构之中。随着 π2-Cygni 系列真空紫外光处理系统的推出，这场变革正式开始。

一体化结构
高效光源、被动冷却和集成吹扫系统意味着运行所需的一切都已集成在系统内部。只需插上随附的 12 Vac 电源适配器，并通过 1/4 英寸快插接头连接吹扫气源，π2-Cygni 即可投入使用。

完整且灵活的 VUV 曝光系统
采用模块化设计理念，π2-Cygni 开箱即可提供以下能力：

• 具有集成惰性气体吹扫功能的大面积通用 VUV 泛光曝光

• 配备曝光腔和掩膜夹持器的基础光处理功能

• 配备硬接触式光掩膜处理模块的高分辨率光刻功能

• 利用标准化安装系统与现有设备集成

应用领域

• 高分辨率光刻

• 光烧蚀

• 光解 / 光催化过程

• 表面能调控

• 臭氧生成

• 低损伤原子级表面清洗

• 增强薄膜附着力

特点

• 新一代 VUV 光源：172 nm

• 同类最佳输出强度

• 卓越光束均匀性：在可用孔径范围内达到 3%

• 长寿命：最高可达 30,000 次曝光

• 几乎瞬时点亮

• 紧凑、坚固、便携

• 标准化附件安装系统：一个光源，多种应用

• 直观设计，降低所有用户的培训要求

• 运行和工艺过程更加环保

VUV：一种全新的工艺范式
传统 172 nm 光源输出功率较低，这限制了该波长在科研和生产环境中的广泛应用。π2-Cygni 打破了这一障碍，正在展现 172 nm 的真正潜力——推动新的化学过程、反应机制和加工技术的发展。紫外线不再仅仅用于光刻和固化。

重新定义“功率”
UV 弧光灯可提供高平均功率，准分子 UV 光源可提供高光子通量。而 π2-Cygni 则同时提供高平均功率和高光子通量，并且无需主动或外部冷却。这种高功率与高光子通量的独特组合，被封装在一个手掌大小的装置中，却能够驱动其他光源无法实现的大面积反应和工艺。

灯技术中的全新形态
每个 π2-Cygni 的核心是一种平面微腔放电灯。大面积发光相较传统弧光放电灯具有更优异的均匀性，同时也无需复杂的聚光、准直和均光光学系统。

紫外技术如今也可以是绿色的
在 π2-Cygni 出现之前，紫外光的产生通常意味着有毒材料、较低的转换效率和高昂的设备成本。π2-Cygni 打破了这些壁垒，提供了一种环保且节能的解决方案。π2-Cygni 的制造和结构中不使用有毒材料，并且在生产工艺中使用 π2-Cygni 有望减少化学废物流和用水量，而成本仅为其他 172 nm 光源的一小部分。

样品 / 基底

• 最大尺寸：50 mm × 50 mm（2” × 2”）

• 最小尺寸：10 mm × 10 mm（0.4” × 0.4”）

• 掩膜 + 样品最大总厚度：8 mm

掩膜尺寸

• 75 mm × 75 mm（3” × 3”）

• 可选定制尺寸

样品对准

行程范围

• X、Y：± 6 mm

• Theta：± 10°（粗调），± 3°（精调）

分辨率

• X、Y：< 1.5 μm（可选 < 0.5 μm）

• Theta：2 × 10^-4 °

电源要求

电压

• 12 VDC，110/220 V AC

• （随附 12 VDC 适配器）

功耗

• < 20 W

辅助条件

• 真空（可选）：< -0.2 bar

• 压缩空气（可选）：> 1.1 bar

曝光模式

• 软接触

• 硬接触

物理尺寸

• 宽度：205 mm（8”）

• 深度：230 mm（9”）

• 高度：400 mm（15.5”）

重量

• < 12 kg（26.5 lb）

曝光波长

（需配合 π-Photon 使用，单独出售）

• 172 nm

• 222 nm

• 308 nm

* 运行时需要使用干燥氮气或氩气进行吹扫。

** UV 级熔融石英的透过光谱需由制造商确认。