当前位置:首页 >> 产品展示 >> 半导体分析

半导体分析

PHEMOS-X

  • 产品时间:2025-09-29 09:48:42

简要描述:产品概述:PHEMOS-X 是一款正装高分辨率微光显微镜,可捕捉半导体器件故障导致的发光和产热,并识别故障位置。其可用于从电源设备到先进设备分析等各种用途。特点:高分辨率与高灵敏度:具有≤1μm 的超高分辨率,可捕捉半导体器件故障导致的发光和产热,清晰显示半导体器件内部的微观结构和缺陷,实现从成熟制...

详细介绍

产品概述:
PHEMOS-X 是一款正装高分辨率微光显微镜,可捕捉半导体器件故障导致的发光和产热,并识别故障位置。其可用于从电源设备到先进设备分析等各种用途。

 

 

特点:

高分辨率与高灵敏度:具有≤1μm 的超高分辨率,可捕捉半导体器件故障导致的发光和产热,清晰显示半导体器件内部的微观结构和缺陷,实现从成熟制程到先进制程芯片的失效分析测试。

多种分析技术适配滨松光子学株式会社:可安装两个超高灵敏度相机,涵盖不同的发射分析和热分析检测波长范围,能轻松选择与样品和故障模式相匹配的分析技术。还可安装多达 7 个 OBIRCH、DALS、EOP 和激光器标记光源,满足多种分析需求。

高精度载物台滨松光子学株式会社:专为先进设备设计,光学载物台的工作范围为 X±20mm、Y±20mm、Z+80mm,确保了测试的准确性和稳定性。

先进的显示功能滨松光子学株式会社:可将微光图像叠加在高分辨率图案图像上,快速定位缺陷点。具备对比度增强功能,使图像更清晰、更细腻。此外,还支持注释、刻度显示、网格显示、缩略图显示、拆分屏幕显示等多种显示功能,方便用户进行图像分析。

多波长激光扫描:采用新型多波长激光扫描仪,结合独特的内部光学设计技术,可抑制光学损耗,利用从 532 纳米的可见光到 1340 纳米的近红外光的多波长激光束进行半导体故障分析,相比之前使用波长较短的激光,可以更详细地观察半导体器件。

适配多种样品和场景:可与通用探测仪结合使用,用户能使用熟悉的样品设置来执行各种分析任务,适用于从探针台插座板到大型 300mm 晶圆探针台等多种任务和应用场景。

软件效果演示:

图片2.png

参数:

尺寸/重量:主机:1656 mm (W)×2000 mm (H)×1247 mm(D),约 1640 kg

操作台:1000 mm (W)×700 mm (H)×800 mm (D),约39.2kg(C16216-01 操作台)/1480 mm (W)×700 mm (H)×800 mm(D),约48.6 kg(C16216-02 操作台)

线路电压:单相200 V ~ 240 V

用电功耗:约 3300 VA

真空度:至少 80 kPa

压缩空气:0.6 MPa~0.7 MPa


 


上一篇:没有了!

下一篇:iPHEMOS-MPX


推荐产品

Copyright © 2025 上海达灿光电科技有限公司版权所有 沪ICP备2025132989号-1 华大网络

在线客服 微信号

服务热线

15501138672

扫一扫,关注我们

在线客服
服务热线

服务热线

15501138672

微信咨询
返回顶部
X

截屏,微信识别二维码

微信号:15501138672

(点击微信号复制,添加好友)

  打开微信

微信号已复制,请打开微信添加咨询详情!