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半导体分析

Dual PHEMOS-X

  • 产品时间:2025-09-29 09:51:49

简要描述:产品概述:Dual PHEMOS-X 专为先进的 3D 非透明器件所设计,在这些器件中,可能需要在晶圆或芯片级的两侧(顶部和底部)同时进行光学故障分析。特点:两侧同时分析滨松光子学株式会社:可针对一个单元进行两侧故障分析,无需将设备移至另一系统 / 仪器,即可轻松切换顶部故障分析与底部故障分析,能获取更多热点抓取机会。高...

详细介绍

产品概述:Dual PHEMOS-X 专为先进的 3D 非透明器件所设计,在这些器件中,可能需要在晶圆或芯片级的两侧(顶部和底部)同时进行光学故障分析。

特点:

两侧同时分析滨松光子学株式会社:可针对一个单元进行两侧故障分析,无需将设备移至另一系统 / 仪器,即可轻松切换顶部故障分析与底部故障分析,能获取更多热点抓取机会。

高精度载物台滨松光子学株式会社:光学载物台顶部工作范围为 X±40mm、Y±40mm、Z+80mm,底部工作范围为 X±60mm、Y±60mm、Z+20mm。搭配的样品载物台(半自动探针台 MPd-1000X C16688-01),XY 载物台控制范围为 X±300mm、Y±300mm,Z 控制范围为 + 22.5mm,θ 为 ±5°,并具备晶圆映射功能和对齐功能,确保了测试的准确性和稳定性。

先进的显示功能滨松光子学株式会社:可将微光图像叠加在高分辨率图案图像上,快速定位缺陷点。具备对比度增强功能,使图像更清晰、更细腻。还支持注释、刻度显示、网格显示、缩略图显示、拆分屏幕显示等多种显示功能,可在 6 窗口屏幕中一次显示图案图像、微光图像、叠加图像和参考图像。

高灵敏度与新技术应用滨松光子学株式会社:可选配 TD Imaging 热力学成像模块,该模块利用专利激光扫描技术,将信噪比提高了 38 倍,670nm 光源使 Cu 和 Al 等金属的信噪比相比 1300nm 光源提高了 4 倍,且可在 90 秒内完成数据采集,提供了比 Lock-in Thermography 更高的信噪比,能精准确定新型前沿半导体器件的故障位置。

软件效果演示:

图片5.png

参数:

尺寸/重量:主机:1900 mm (W)×2200 mm (H)×1350 mm(D),约 2335 kg

系统机架:1060 mm (W)×1841.5 mm (H)×715 mm(D),约 370 kg

探针台机架:800 mm (W)×1800 mm (H)×650 mm (D),约360kg

线路电压:单相200 V ~ 240 V

用电功耗:约 3300 VA(系统机架)/约 4400 VA(探针台机架)

真空度:-40kPa ~ -80kPa

压缩空气:0.5 MPa~0.7 MPa

 


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